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3G-EM4 3D曝光机

产品介绍:
面料: 3G-EM4  3D曝光机
型号: 3G-EM4  3D曝光机
应用:

针对于半导体,微电子,生物器件和和纳米科技领域中,通过开启灯光发出紫外线,将胶片或其他物体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备,在半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准等行业方面得到广泛的应用。

咨询热线: 400-660-7690转1

应用范围:

针对于半导体,微电子,生物器件和和纳米科技领域中,通过开启灯光发出紫外线,将胶片或其他物体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备,在半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准等行业方面得到广泛的应用。

产品特点:

解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题.

图形转印技术单层、多层套印精度高.

雾化喷涂确保厚度均一性,提高致密性,降低油墨厚度.

采用图形转印技术,良率较高.

4-6寸盖板单制程产能优势明显.

较薄的油墨利于贴合,提高制程整体良率.


产品优势:
技术规格:

3G-EM4-3D曝光机

3G-EM4-3D曝光机

注意事项:
蜕变前后:

3G-EM4  3D曝光机

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